액체 과산화물
화학명 : 과산화수소
CAS: 7722-84-1
EINECS: 231-765-0
화학식: H2O2
외관: 무색 투명한 액체
CAS: 7722-84-1
EINECS: 231-765-0
화학식: H2O2
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과산화수소
- 천연 액체 과산화물:
- Fe² ⁺와 같은 전이 금속 이온의 촉매 작용 하에서 과산화수소는 펜톤 반응을 통해 반응성이 높은 수산기 라디칼(·OH)을 생성할 수 있습니다.
H₂O₂ + Fe²⁺ → Fe³⁺ + ·OH + OH⁻
하이드록실 라디칼은 선택성 없이 거의 모든 유기 분자를 공격하는 것으로 알려진 가장 산화성이 높은 종 중 하나입니다. 이 반응은 환경 개선(오염 물질 분해를 위한 고급 산화 기술)과 생물학(산화 스트레스 손상 유발) 모두에 중요한 의미를 갖습니다.
|
목 |
사양 |
|
H2O2 이상 |
50 |
|
비-휘발성 작거나 같음 |
0.08 |
|
유리산 이하 |
0.04 |
|
STEADY 이상 |
97 |
|
C 작거나 같음 |
0.035 |
|
NO3 이하 |
0.025 |
액체 과산화물 적용:
1. 펄프 및 섬유 산업의 표백: 이는 과산화수소의 가장 큰 산업적 용도입니다. 염소, 차아염소산염 등 기존의 염소 함유 표백제에 비해 과산화수소로 표백한 제품은 백색도가 더 높고 안정적이며, 다이옥신과 같은 독성 염소 함유 유기 화합물을 생성하지 않습니다. 친환경적이며 '무염소 표백'의 대표자로 알려져 있습니다.
2. 화학적 합성 : 녹색산화제로서 과산화수소는 각종 유기과산화물(중합개시제이자 여드름 치료제인 벤조일퍼옥사이드 등), 에피클로로히드린(폴리우레탄 제조에 중요한 원료) 등을 합성하는데 사용된다.
3. 반도체 및 전자 산업: 고순도 과산화수소는 실리콘 웨이퍼 세척 및 에칭 공정에서 포토레지스트 및 유기 잔류물을 제거하는 데 사용되는 핵심 화학 물질입니다.








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